酸化チタン薄膜の開発

HPPMSなどの各種スパッタリング法を用いて、アナターゼ型やルチル型の薄膜TiO2の成膜を行っています。透明導電膜（電子デバイス）、可視光応答型光触媒（水分解水素製造、抗菌コーティング）、高屈折率ガラス（電子デバイス）、リチウムイオン電池用負極などへの応用を目指しています。

1.HPPMSを用いたルチル型酸化チタンの成膜

ルチル型酸化チタンは、 高屈折率(n=2.7)及び高誘電率(ε=114)を示し、それぞれカメラなどの反射防止膜や温度補償用コンデンサへの応用が期待されています。アナターゼ型酸化チタンからルチル型酸化チタンへの相転移温度は600℃にもなりますが、HPPMSを用いることで基板加熱冷却なしの成膜条件下において、基板温度300℃程度でルチル型酸化チタン薄膜をえることができています。